連続晶析では、目標粒度で高収率を得ることが目的となります。多くの場合、連続晶析法の検討には、実験室でバッチ晶析を行い、結晶粒度分布に影響するプロセス変数を検討します。プロセス制御においては、目標粒度となるよう制御するために、速く、高感度で、高精度な測定が要求されます。これはオフライン分析では難しい分野です。
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