低ppb级硅在微电子生产中至关重要，但大多数硅分析仪常见的频繁维护令人沮丧。对于一家美国制造商来说，改用梅特勒-托利多的 2850Si 减少了维护工作，并提高了对 UPW 质量的信心。
如果超纯水中含有二氧化硅，会在硅晶圆上干涸的水滴会导致薄膜附着力下降、接触电阻降低，进而导致缺陷和硅晶圆产量降低。
本案例研究探讨了这家领先的微电子制造商为何选择梅特勒-托利多的硅分析仪来监测其超纯水系统中的低ppb 硅含量。
二氧化硅存在于所有水源中，需要通过膜分离和/或离子交换来去除。如果树脂柱或其他地方的二氧化硅含量超标，就会导致产品滞销，并在找到污染源并采取补救措施时造成收入损失。为了尽量减少这些问题，必须在适当的位置持续监测超纯水中的二氧化硅含量，并将其控制在亚ppb 级水平。
直接、连续的二氧化硅测量是防止阴离子树脂在接近耗尽时释放二氧化硅造成污染的最有效方法。二氧化硅的电导率可以忽略不计，因此无法通过电阻率测量检测到 UPW 净化系统所需的适当控制水平。
梅特勒-托利多2850Si 硅分析仪结构紧凑，只需最少的操作员监督，即可进行可靠的低ppb 硅测量。
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