アンモニア濃度測定用波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計： GPro 500
NH₃測定用波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計
アンモニア(NH3)ガス分析計GPro 500は、スタック測定やアンモニアスリップアプリケーションでのアンモニアの直接測定を目的に開発された、波長可変半導体レーザー分析計です。 レーザー吸収分光法を採用し、低メンテナンスで正確な測定を実現しています。
最高性能のアンモニア測定
難易度の高いアプリケーション向けのNH3分析計であるGPro 500は、アンモニアスリップやスタック測定アプリケーションで信頼性の高い測定を実現します。
低メンテナンス・低ランニングコスト
このアンモニアガス分析計は、in-situ測定を行い、メンテナンス頻度の高いコンディショニングシステムを必要としない設計になっているため、総所有コストを削減できます。
設置が簡単
GPro 500はアライメント調整が不要なので、装置の設置やアライメント調整に伴う負担が大幅に軽減されます。
仕様
仕様 - アンモニア濃度測定用波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計： GPro 500
| ガス測定 | アンモニウム（NH₃） |
| 測定下限値 | 1 ppm-v |
| 測定レンジ | 0 – 1% |
| 測定精度 | 読み取り値の2%または1 ppm (いずれか大きい方) |
| 直線性 | 1%以内 |
| 分解能 | 1 ppm |
| ドリフト | 無視できる（メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満） |
| サンプリングレート | 1秒 |
| 応答時間 (T90) | N₂中のNH₃が1%～0%で4秒未満 |
| 繰り返し性 | 読み取り値の±0.25%または5 ppm-v NH₃ (いずれか大きい方) |
| 測定プロセス圧力範囲 | 0.8 bar - 3 bar (絶対圧力)/11.6 psi - 43 psi (絶対圧力) |
| 測定プロセス温度範囲 | 0-250 °C (23-482 °F)、オプション (プローブ設置用) <br>0-600 °C (0-1112 °F) 追加サーマルバリア付き |
| 有効光路長 | 50 mm - 10 m (アダプションに応じて異なる) |
| プロセスアダプタ/センサ | センサ |
機能と利点
| プロセス制御ニーズに対応 このNH3ガス分析計はアンモニアスリップアプリケーションでのプロセス制御に最適です。 アンモニアガス分析計GPro 500は、重要なアプリケーションにおいて正確で信頼性の高い高速測定を提供する波長可変半導体レーザー分析計で、SIL2に適合しています。 |  |
| in-situですぐに測定 NH3ガス分析計GPro 500は、現場に設置されるため、サンプルを調整する必要がなく、迅速に結果を得ることができます。 これは、メンテナンス頻度の高い抽出・調整システムを必要とする技術に代わる、信頼性と費用対効果の高い技術です。 |  |
| 難易度の高い設置を想定した設計 GPro 500は自由に構成できるため、アンモニアガス分析計の測定システムをさまざまなプロセスアダプションと組み合わせて、50 mm～1 m超のパイプ直径など、幅広い設置要件に対応させることができます。 |  |
| 長寿命を保証する予測診断機能 このアンモニアTDLガス分析計は、インテリジェントセンサマネジメント(ISM)技術を使用して、光路の清掃が必要な時期を通知するなど、分析計の状態を予測して診断します。 |  |
ドキュメント
パンフレット
製造現場では、安全性、品質、生産性は、重要な要素です。そのため、私たちは製品開発の際に、「顧客のビジネスに、私たちの製品がどのように寄与できるのか？取扱いやメンテナンスがどれだけ影響を与えるのか？」という一メーカーとしての製品開発だけではなく、ビジネス視点も踏まえて分析計やセンサの研究開発を行ってい...
データシート
The GPro™ 500 ammonia (NH3) gas analyzer is a unique TDL spectrometer designed for direct measurement of ammonia in stack measurement and ammonia slip...
An NH3 and H2O analyzer for challenging applications, the GPro 500 provides reliable analysis in ammonia slip and stack measurement applications.
Manuals
White Papers
このホワイトペーパーは、プロセスガス分析装置に関する5つの課題と、波長可変半導体レーザー(TDL)分光センサを採用することでどのように回避することが可能になるのかについて解説しています。
Application Notes
製造プロセス計装向け高精度のインラインプロセス計測制御機器を提供しています。デジタルインテリジェント技術を搭載したプローブや交換や清掃を簡素化するハウジング、視認性の高いコントロール画面を有するプロセス変換器など、シームレスなシステム統合や高度な総合監視を可能にします。
ケーススタディ
レーザー式 (TDL)ガス分析センサ およびアンペロメトリック酸素ガス分析センサは両方ともサンプリングまたはコンディション調整が不要で、所有コストを削減しながらダウンタイムを短縮し、プロセスの安全性を強化します。 メトラー・トレドは酸素濃度計（O2計）や、幅広いパラメータに対応するガス分析センサでC...
製造プロセス計装向け高精度のインラインプロセス計測制御機器を提供しています。デジタルインテリジェント技術を搭載したプローブや交換や清掃を簡素化するハウジング、視認性の高いコントロール画面を有するプロセス変換器など、シームレスなシステム統合や高度な総合監視を可能にします。
ソフトウエア
MT-TDL-Suite-V6_8_6_w_RT-2022-06-09 (zip - 200 MB)
