プロセスガス分析装置は、多数の化学品製造工程の安全運転と効率を確保する上で、極めて重要な役割を果たします。 プロセスガス分析装置は、反応槽で発生する爆発的な状態の防止から、貯蔵タンク内の窒素不活性モニタリング、熱酸化装置の燃焼制御に至るまで必要不可欠な構成要素です。
多くのタイプのプロセスガス分析装置があり、各々のアプリケーションに最適なタイプを選択することが非常に重要です。 しかし、磁気式、NDIRもしくはジルコニア、いずれの分析装置を選択しても、各種分析装置の欠点に直面しなければなりません。
磁気式装置の場合、応答速度の遅さが深刻な懸念です。 磁気式分析装置が必要とする、分析装置の測定セルを保護するためのサンプル抽出およびコンディショニングは、測定を遅延させ、プロセスの不具合に対して反応を遅くする可能性があります。
さらに、抽出およびコンディショニングシステム動作を継続するために必要なメンテナンスが過剰となる可能性があります。
しかし、一般的に使用されるガス測定技術のすべてを迅速に置き換える代替技術があります。
GPro 500シリーズのような波長可変半導体レーザー(TDL)分光センサは、磁気式および他のプロセスガス分析装置タイプを置き換える高速応答を実現したソリューションです。
TDLガス分析センサは以下を提供します。
- In-situ 測定
- 2秒で応答
- 低メンテナンス
- 高い耐塵耐水性能
- 幅広い種類のガスに対応
このホワイトペーパーは、プロセスガス分析装置の性能に影響する5つの課題と、GPro 500を採用することでどのようにそれらの課題を回避することが可能になるのかについて解説しています。
なぜ世界中の化学企業がTDLガス分析センサへの切り替えを進めているのかについて、ホワイトペーパーでご覧ください。