微量水分分析計： GPro 500
H₂O測定用の波長可変半導体レーザー分析計
微量水分(H2O)分析計GPro 500は、ガス流中のH2Oの直接測定を目的に開発された、波長可変半導体レーザー分析計です。 レーザー吸収分光法を採用し、シンプルな設置と正確な水分検出を実現しています。
最高性能の水分測定
難易度の高いアプリケーション向けの水分分析計であるGPro 500は、塩素ガスやEDC貯蔵などのアプリケーションで信頼性の高い測定を実現します。
低メンテナンス・低ランニングコスト
このH2Oガス分析計は、in-situ測定を行い、メンテナンス頻度の高いコンディショニングシステムを必要としない設計になっているため、総所有コストを削減できます。
設置が簡単
GPro 500はアライメント調整が不要なので、装置の設置やアライメント調整に伴う負担が大幅に軽減されます。
機能と利点
仕様 - 微量水分分析計： GPro 500
| ガス測定 | 微量水分(水分/水蒸気) |
| 測定下限値 | 5 ppm-v、1 ppm-v |
| 測定レンジ | 0-200,000 ppm (0-2%)、0-100,000 ppm (0-1%) |
| 測定精度 | 読み取り値の2%または10 ppm (いずれか大きい方) |
| 直線性 | 1%以内 |
| 分解能 | 5 ppm-v、1 ppm-v |
| ドリフト | 無視できる（メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満） |
| サンプリングレート | 1秒 |
| 応答時間 (T90) | N₂中のH₂Oが1%～0%で4秒未満 |
| 繰り返し性 | 読み取り値の±0.25%または50 ppm-v H20 (いずれか大きい方) |
| 測定プロセス圧力範囲 | 0.8 bar - 3 bar (絶対圧力)/11.6 psi - 29 psi (絶対圧力)、0.8 bar - 5 bar (絶対圧力)/11.6 psi – 72.5 psi (絶対圧力) |
| 測定プロセス温度範囲 | 0-250 °C (23-482 °F)、オプション (プローブ設置用) <br>0-600 °C (0-1112 °F) 追加サーマルバリア付き |
| 有効光路長 | 50 mm - 10 m (アダプションに応じて異なる) |
| プロセスアダプタ/センサ | センサ |
パンフレット
製造現場では、安全性、品質、生産性は、重要な要素です。そのため、私たちは製品開発の際に、「顧客のビジネスに、私たちの製品がどのように寄与できるのか？取扱いやメンテナンスがどれだけ影響を与えるのか？」という一メーカーとしての製品開発だけではなく、ビジネス視点も踏まえて分析計やセンサの研究開発を行ってい...
データシート
The GPro 500 TDL moisture sensor is designed for the measurement of H2O levels for corrosion prevention. In situ installation can avoid risks of toxic...
White Papers
このホワイトペーパーは、プロセスガス分析装置に関する5つの課題と、波長可変半導体レーザー(TDL)分光センサを採用することでどのように回避することが可能になるのかについて解説しています。
Application Notes
製造プロセス計装向け高精度のインラインプロセス計測制御機器を提供しています。デジタルインテリジェント技術を搭載したプローブや交換や清掃を簡素化するハウジング、視認性の高いコントロール画面を有するプロセス変換器など、シームレスなシステム統合や高度な総合監視を可能にします。
ケーススタディ
メトラー・トレドの波長可変半導体レーザ(TDL)ガス分析計 GPro 500は、広範囲の気体について、直接にプロセス内であるか、サンプルストリーム中であるかを問わず、信頼性の高い測定方法を提供します。TDLセンサのレーザー光は、特定の波長域で出力され吸光された波長をスキャンするように調整されます。吸...
ソフトウエア
MT-TDL-Suite-V6_8_6_w_RT-2022-06-09 (zip - 200 MB)
