このホワイトペーパーでは、半導体・精密電子部品製造における超純水(UPW)の再生戦略に伴う課題について説明します。現代の半導体工場は、通常のオペレーションをUPWの連続フローに完全に依存しています。これらの工場では、一日あたり数千立方メートル単位で水の使用量を測定しています。この水の生産コストは、設備投資と排出コストの両方で、世界中のファブひょう量と技術が拡大および改善されるにつれて継続的に上昇しています。再利用されるUPWの量を増やし、廃棄、無駄の汚染, コンタミネーションレベルを減らすための新しい要件は、導電率、全有機炭素(TOC)、温度、pH、および溶存酸素(DO)の継続的な監視と測定の重要性を強調しています。
これらの技術的な課題に対する標準液は、水を再処理して、同じプロセス内でUPWをリサイクルできるようにするか、施設内の別のプロセスでUPWを再利用できるようにすることです。半導体用UPWの再生戦略には、コストの削減や環境ガイドラインによるコンプライアンスの確保など、複数のメリットがあります。これらの戦略はプラスの投資収益率をもたらします。UPW(この業界では一般にDI水とも呼ばれます)は、製造に費用がかかり、廃棄、無駄ストリームからのUPWのリサイクルは、最初の精製ステップよりも1リットルあたりのコストが低くなります。環境パフォーマンスの観点から、UPWの再利用やその他のグリーンエンジニアリング技術は、業界の持続可能性を促進します。水循環戦略を持つことは、地域社会にとっての水の重要性を認識していることを示し、したがってそれらの関係を強化することができます。
UPWの回収プロセスでは、導電率、温度、pH、および溶存酸素(DO)の測定と制御だけでは、システムを正確に制御するために必要な完全な分析情報を提供することはできません。特に、リアルタイムTOC 分析は、工場管理者が浄水プロセス全体を完全に理解し、制御するために不可欠です。
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