마이크로 전자 산업은 생산 공정에 상당히 많은 양의 초순수가 필요합니다. 일반적인 반도체 제조 공장에서 웨이퍼 및 기질 세척, 헹굼 및 에칭에 매일 수천 입방미터의 UPW(초순수)가 소비됩니다. 공정 분석 측정은 용수 사용 최적화와 회수 및 재사용 최대화에 대하여 핵심이 됩니다.

Mettler-Toledo Thornton은 가장 까다로운 UPW 및 마이크로 전자 가공 응용 분야에 사용하도록 특별히 설계된 분석 장비를 다양하게 제공합니다. 비저항/전도도, TOC, pH, ORP, 용존 산소 및 용존 오존 모니터링을 위한 뛰어난 솔루션을 제공하여 회수되는 물의 양을 증가시키고, 배출을 제한하며, 가공 비용을 줄입니다. 독특한 ISM™(지능형 센서 관리) 개념을 사용한 온라인 측정 솔루션에 대해 자세히 알아보십시오.

[적용분야]

반도체 초순수는 반도체 산업의 웨이퍼 생산 및 세척에 사용되는 가장 적합한 용매입니다. 효율적인 운영과 가장 까다로운 요건을 충족하기 위해, UPW 시스템의 분석 공정 관리가 매우 중요합니다.		평판 패널 디스플레이 평판 패널 디스플레이 제조는 순수 및 초순수 시스템의 이온 및 유기 이물질에 대해 기준이 매우 엄격합니다. UPW 시스템에서 이러한 이물질을 측정하여 평판 패널 제조업체는 제품 품질을 높이고 수율을 최대화할 수 있습니다.		광전지 광전지 셀 제조는 청결한 웨이퍼 표면이 필요하여 초순수로 광범위하게 세척하여 관리합니다. 이온 염분 또는 유기 이물질은 셀 효율에 악영향을 줄 수 있으므로 지속적으로 모니터링해야 합니다.