ウエハセル型GPro 500

ウエハセル型GPro 500

小口径パイプでの直接(in-situ)ガス測定

ウエハセル型の波長可変半導体レーザー(TDL)分析計GPro 500は、小型で狭いパイプへの実装を想定しています。 流れを妨げることなく、最大DN50(2インチ)のパイプ内のO2などのガスを正確に測定することができます。

狭いパイプ内のガスをin-situ測定
ウエハセル型では、狭いパイプ内のガスをin-situで簡単に測定することができます。 すべてのGPro 500ガス分析計に対応しており、最大限の汎用性を備えています。

サンプリングやコンディショニングシステムが不要
ウエハセル型は、メンテナンス頻度の高いサンプリングシステムやコンディショニングシステムを必要としません。 そのため、コストや測定のダウンタイムを削減することができます。

アライメント調整が不要
このウエハセル型は自己完結型ユニットで、直接パイプに設置することができます。 ガス流を妨げずに正確な測定を提供します。

 

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仕様

仕様 - ウエハセル型GPro 500

有効光路長 104 mm、110 mm、154 mm、164 mm、214 mm (4.09"、4.33"、6.06"、6.46"、8.43")
ガス測定 酸素、CO₂、CO、HCl、H₂S、水分、メタン、アンモニアのGPro 500分析計と統合
測定下限値 使用する分析計に基づく
説明 このプロセスアダプションは、GPro 500ガス分析計と組み合わせて小口径パイプに設置します。
プロセスアダプタ/センサ プロセスアダプション

機能と利点


小口径パイプでin-situ測定
ウエハセル型のTDLガス分析計GPro 500では、小口径パイプの中のガスを直接測定することができます。 ウエハセル型は、他のタイプのTDL分析計では難しい、DN50/80/100の配管や、ANSI 2/3/4インチの配管に設置することができます。
 
ライフサイクル全体のメンテナンスコストの削減
ガス分析計で発生するコストの大半を占めるのは、メンテナンス頻度の高いサンプリング・コンディショニングシステムです。 これらのシステムの定期的なメンテナンス作業が、総所有コストを大幅に増加させます。 ウエハセル型の分析計では、これらのシステムが完全に不要になります。
 
設置の下準備と労力を軽減
多くのTDLガス分析計は、設置時のアライメント調整に相当な下準備と労力を必要とします。 ウエハセル型は、パージガス、温度、圧力測定用のポートを備えており、パイプに取り付けることができるので、この必要性がなくなりました。
 
幅広い用途
ウエハセル型は、幅広いプロセスに対応した新しい設置の可能性を実現します。 一般的な用途には、焼却炉へのオフガスのモニタリングや、供給原料の純度や乾燥度の追跡などがあります。

ドキュメント

データシート

Datasheet: Wafer Cell Adaption for GPro 500
The wafer cell process adaption for the GPro™ 500 tunable diode laser gas analyzer is designed for implementation in small, narrow pipes. It allows ac...

Application Notes

プロセス計測制御機器
製造プロセス計装向け高精度のインラインプロセス計測制御機器を提供しています。デジタルインテリジェント技術を搭載したプローブや交換や清掃を簡素化するハウジング、視認性の高いコントロール画面を有するプロセス変換器など、シームレスなシステム統合や高度な総合監視を可能にします。

ケーススタディ

ガス分析装置 – ガスセンサ
レーザー式 (TDL)ガス分析センサ およびアンペロメトリック酸素ガス分析センサは両方ともサンプリングまたはコンディション調整が不要で、所有コストを削減しながらダウンタイムを短縮し、プロセスの安全性を強化します。 メトラー・トレドは酸素濃度計(O2計)や、幅広いパラメータに対応するガス分析センサでC...
迅速かつ堅牢なガス分析装置で腐食を最小化
メトラー・トレドの波長可変半導体レーザ(TDL)ガス分析計 GPro 500は、広範囲の気体について、直接にプロセス内であるか、サンプルストリーム中であるかを問わず、信頼性の高い測定方法を提供します。TDLセンサのレーザー光は、特定の波長域で出力され吸光された波長をスキャンするように調整されます。吸...

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ソフトウェア

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ウエハセル型GPro 500
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