
GPro 500氨氣(NH3)分析儀是一款獨特的TDL光譜分析儀,用於在煙囪氣體測量與氨氣洩漏檢測應用中直接測量氨氣。 其採用摺疊路徑雷射光束設計,維護需求較低,測量結果準確。
卓越的氨氣測量效能
GPro 500 NH3分析儀適用於具有挑戰性的應用,能在氨氣洩漏檢測與煙囪氣體測量應用中提供可靠的測量結果。
低維護成本和運作成本此款氨氣分析儀專為在原位操作而設計,沒有需要經常維護的調節系統,可降低總擁有成本。
安裝簡便
GPro 500是一款無需對光調整的TDL氣體分析儀,大幅減少了TDL安裝和對光操作中經常會遇到的挑戰。
此款氨氣NH3分析儀特別適用於氨氣洩漏檢測應用中的流程控制。 GPro 500氨氣分析儀是一款可調諧二極體雷射氣體分析儀,能在關鍵應用中提供準確、可靠而快速的測量,並與SIL 2相容。
GPro 500 氨氣NH3分析儀採用原位安裝方式,響應快速,無需對樣品進行調節。 這為需要易於維護的提取和調節系統的技術提供了可靠而具有成本效益的替代方案。
GPro 500氨氣分析儀可進行設定,使其測量系統能夠與多種流程配接器配合使用,以適應廣泛的安裝需求,包括直徑50 mm到1米以上的管道。
此款氨氣TDL氣體分析儀採用智慧型感測器管理(ISM)技術,可針對分析儀狀態提供預測性診斷,包括在需要清潔光路時通知您。
氣體測量 | 氨氣(NH₃) |
偵測下限 | 1 ppm-v |
測量範圍 | 0 – 1% |
精確性 | 讀數的2%或1 ppm,以較高者為準 |
線性 | 優於1% |
解析度 | 1 ppm |
位移 | 可忽略不計(維護間隔之間測量範圍的2%以下) |
採樣率 | 1秒鐘 |
回應時間 (T90) | N₂中的NH₃含量從1%降至0%時,響應時間小於4秒 |
重複性 | 讀數的±0.25%或5 ppm-v NH₃,以較高者為準 |
製程壓力範圍 | 0.8 bar - 3 bar (abs)/11.6 psi - 43 psi (abs) |
製程溫度範圍 | 0-250 °C (23-482 °F);可選(適用於電極安裝)<br>0-600 °C (0-1112 °F),附帶隔熱層 |
有效光學路徑 | 50 mm - 10 m,視配接器而定 |
流程配接器或感測器 | 感測器 |
氨氣分析儀: GPro 500