アンモニア・水ガス分析装置:GPro 500

アンモニア・水ガス分析装置:GPro 500

NH₃ ppm・H₂O%測定用波長可変半導体レーザ

GPro 500アンモニア/水分・ガス分析計は、スタック測定やアンモニアスリップアプリケーションにおけるアンモニアの直接測定を目的に開発された独自の波長可変半導体レーザー(TDL)ガス分析計です。レーザー吸収分光法を採用し、低メンテナンスで正確な測定を実現しています。

最高性能のアンモニア測定
難易度の高いアプリケーション向けのNH3 ・H2O 分析計であるGPro 500は、アンモニアスリップやスタック測定アプリケーションで信頼性の高い測定を実現します。

低メンテナンス・低ランニングコスト
このアンモニアガス分析計は、メンテナンス頻度の高いコンディショニングシステムを必要とすることなくin-situ測定を行うことができるため、総所有コストを削減できます。

容易な設置
アライメント調整を必要としないGPro 500は、TDL装置の設置やアライメント調整に伴う負担を大幅に軽減します。

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仕様

仕様 - アンモニア・水ガス分析装置:GPro 500

ガス測定 アンモニアと水(NH₃ と H₂O)
測定下限値 0.4 ppm-v (NH₃)¹⁾、1 ppm-v (NH₃ @ 400°1C、H₂O濃度範囲40%以下) 600 ppm (H₂O)
測定レンジ 0~1%(NH₃)、 0~40% (H₂O)
測定精度 測定値の2%または±0.4 ppmのどちらか大きい方 (NH₃)¹⁾、 ±1 ppm-v (NH₃ @ 400°C、H₂O濃度範囲40%以下) 測定値の5%または±600 ppmのどちらか大きい方 (H₂O)
直線性 1%以内
分解能 0.1 ppm-v (NH₃)、 1000 ppm (H₂O)
ドリフト 無視できる(メンテナンス間隔の間で測定範囲の2%未満)
サンプリングレート 2秒
応答時間 (T90) N₂中のNH₃ が1%~0%で10秒未満
繰り返し性 測定値の2%または0.4 ppmのいずれか大きい方 (NH₃)、 測定値の5% または600 ppmのいずれか大きい方 (H₂O)
測定プロセス圧力範囲 0.8 bar~3 bar / 11.6 psi~43 psi
測定プロセス温度範囲 0~250 °C 標準、 0~600 °C、追加のサーマルバリア付き 0~150 °C PFAまたはPTFEフィルタ付き
有効光路長 50 mm~800 mm、適合オプションにより異なる
プロセスアダプタ/センサ センサ

特長と利点


難易度の高い設置を想定した設計
アンモニアガス分析計GPro 500は、50 mm~1 m超のパイプ直径など幅広い設置要件に対応させることができるため、測定システムをさまざまなプロセスアダプションと組み合わせることができます。

プロセス制御ニーズに対応

このNH3 ガス分析計はアンモニアスリップアプリケーションでのプロセス制御に最適です。アンモニアガス分析計GPro 500は、重要なアプリケーションにおいて正確で信頼性の高い高速測定を提供する波長可変半導体レーザー分析計で、SIL2に適合しています。



in-situですぐに測定

NH3 ガス分析計GPro 500はin-situ設置するため、サンプルをコンディショニングが必要なく、迅速に結果を得ることができます。メンテナンスが煩わしい抽出・コンディショニングシステムを必要とする技術に代わる、信頼性と費用対効果の高い選択肢となります。

 
 

ドキュメント

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データシート

NH3 & H2O Gas Analyzer: GPro 500
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製造プロセス計装向け高精度のインラインプロセス計測制御機器を提供しています。デジタルインテリジェント技術を搭載したプローブや交換や清掃を簡素化するハウジング、視認性の高いコントロール画面を有するプロセス変換器など、シームレスなシステム統合や高度な総合監視を可能にします。

アプリケーションノート

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