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亚洲较大的半导体生产商之一在溶解氧测量方面苦苦挣扎。 他们之前采用的系统成本昂贵，在维护后需要等待三至四天时间，溶解氧读数才能稳定到足以使用。
该代工厂评估了梅特勒托利多Thornton的光学溶氧传感器和M800变送器，并将其作为超纯水系统中的溶解氧测量解决方案。
溶解氧测量始终是该半导体代工厂的重中之重。 他们的期望很高，包括快速反应、易于检测和减少维护。 梅特勒托利多包括光学溶氧传感器和M800变送器在内的解决方案，不仅满足而且超过了他们的预期。 带有光学技术的溶氧传感器无需极化，因此测量系统的可用性非常高。 M800变送器具有多通道、多参数功能，使溶氧测量与其他参数测量配合使用。
下载案例研究阅读包括以下主题的完整信息：
- 为什么半导体代工厂需要测量溶解氧？
- 高精度和快速响应的优势
- 通过光学测量实现长期节省
超纯水（UPW）脱气后测量溶解氧，以确认从水中除氧。 降低溶解氧可维持较低的水电导率，这对于后续的处理步骤（尤其是连续电去离子）至关重要。 在晶片处理期间，保持使用点（POU）水中的溶解氧浓度低于5 ppb，以防止栅氧层厚度失控。 倘若使用点的溶解氧含量较高，则可能会因含氧水而导致意外蚀刻，这会导致故障发生并降低产量，从而造成巨额的经济损失。
