Applikationsmethode

Messungen von pH-Wert und Leitfähigkeit von CMP-Schlamm

Applikationsmethode

Verwenden Sie den richtigen Sensor für zuverlässige Ergebnisse

pH-Wert und Leitfähigkeit von CMP-Aufschlämmung
pH-Wert und Leitfähigkeit von CMP-Aufschlämmung

Das chemisch-mechanische Planarisierungsverfahren (CMP) spielt eine entscheidende Rolle bei der Herstellung glatter und gleichmäßiger Oberflächen auf Wafern, was für mikroelektronische Geräte und integrierte Schaltkreise unerlässlich ist. Innerhalb des halbleiter herstellungsprozesses bildet die CMP das Rückgrat. Die Messung des pH-Werts und der Leitfähigkeit der CMP-Aufschlämmung gewährleistet deren einheitliche Qualität, was letztlich für die Qualität und Konsistenz der Waferoberfläche von Bedeutung ist. Dies kann jedoch aufgrund der komplexen chemischen Matrix und der Viskosität der CMP-Probe sowie einiger anderer Herausforderungen eine Herausforderung sein. Auch der hohe Leitfähigkeitsbereich stellt eine Herausforderung dar. Der InLab® Power Pro-ISM pH-Sensor und der InLab® 731-ISM Leitfähigkeitssensor von METTLER TOLEDO bieten eine genaue und zuverlässige Lösung für die pH- und Leitfähigkeitsmessung von CMP-Schlämmen.

Der Anwendungshinweis bietet eine umfassende Anleitung, wie Sie die Herausforderungen bei der Messung des pH-Werts und der Leitfähigkeit von CMP-Schlämmen meistern und bessere Ergebnisse erzielen können. Außerdem wird betont, wie wichtig es ist, gute elektrochemische Praktiken zu befolgen, und es werden wertvolle Tipps zur Wartung und Lagerung der Sensoren gegeben.

Um zu erfahren, wie Sie den pH-Wert und die Leitfähigkeit von CMP-Schlämmen genau messen können, laden Sie jetzt den Anwendungshinweis herunter.

Häufig gestellte Fragen (FAQs): Genaue Messung von pH-Wert und Leitfähigkeit in CMP-Schlamm

Warum sind pH- und Leitfähigkeitsmessungen in CMP-Schlämmen wichtig?

Messungen des pH-Werts und der Leitfähigkeit sind bei CMP-Schlämmen wichtig, da sie dazu beitragen, die Qualität der CMP-Schlämme zu überwachen, was letztlich die Qualität der Waferoberfläche, die Konzentration der Schleifpartikel und anderer Zusätze gewährleistet. Dies trägt zur Aufrechterhaltung des optimalen Gleichgewichts der Chemikalien in der Aufschlämmung bei und gewährleistet konsistente und zuverlässige Polierergebnisse.

Was sind die Herausforderungen bei der Messung des pH-Werts und der Leitfähigkeit von CMP-Schlämmen?

Bei der Messung des pH-Werts und der Leitfähigkeit von CMP-Schlämmen gibt es mehrere Herausforderungen. Die Viskosität und die Komplexität der Probe stellen ein großes Hindernis dar und erschweren die Analyse. Außerdem kann die Verbindung verstopfen, der Sensor kann durch raue chemische Umgebungen beschädigt werden und es kann ein hoher Leitfähigkeitsbereich bestehen.