Aumente o rendimento do wafer e reduza o desperdício

À medida que os reguladores colocam cada vez mais ênfase na sustentabilidade, as semi-fábricas estão sob crescente pressão para aumentar a qualidade e diminuir a quantidade de água nos fluxos de resíduos. Como o principal indicador da qualidade da água, a medição precisa da resistividade é crucial.

A limpeza RCA é usada entre cada etapa da produção de wafer e utiliza três ou quatro banhos de limpeza, cada um seguido por um enxágue com água ultrapura (UPW) para remover produtos químicos, resíduos e partículas antes da próxima etapa de produção.

Os sensores de resistividade típicos disponíveis hoje oferecem precisão de medição de +/- 1%. Esse nível de incerteza pode ser aceitável para alguns processos, mas não ajuda as semifábricas a atender às suas necessidades de produção de tecnologias de próxima geração. Para atender a esses requisitos em evolução, a METTLER TOLEDO Thornton desenvolveu o sensor de resistividade UPW UniCond™ - o único sensor de resistividade disponível capaz de atingir ≥0,5% de precisão em uma medição de resistividade com compensação de temperatura.