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改善半导体生产过程中的溶解氧测量

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关于快速响应光学传感器的案例研究

溶氧测量
溶氧测量

亚洲较大的半导体生产商之一在溶解氧测量方面苦苦挣扎。 他们之前采用的系统成本昂贵,在维护后需要等待三至四天时间,溶解氧读数才能稳定到足以使用。

该代工厂评估了梅特勒托利多Thornton的光学溶氧传感器和M800变送器,并将其作为超纯水系统中的溶解氧测量解决方案。

溶解氧测量始终是该半导体代工厂的重中之重。 他们的期望很高,包括快速反应、易于检测和减少维护。 梅特勒托利多包括光学溶氧传感器M800变送器在内的解决方案,不仅满足而且超过了他们的预期。 带有光学技术的溶氧传感器无需极化,因此测量系统的可用性非常高。 M800变送器具有多通道、多参数功能,使溶氧测量与其他参数测量配合使用。

下载案例研究阅读包括以下主题的完整信息:

  • 为什么半导体代工厂需要测量溶解氧?
  • 高精度和快速响应的优势
  • 通过光学测量实现长期节省
     
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超纯水(UPW)脱气后测量溶解氧,以确认从水中除氧。 降低溶解氧可维持较低的水电导率,这对于后续的处理步骤(尤其是连续电去离子)至关重要。 在晶片处理期间,保持使用点(POU)水中的溶解氧浓度低于5 ppb,以防止栅氧层厚度失控。 倘若使用点的溶解氧含量较高,则可能会因含氧水而导致意外蚀刻,这会导致故障发生并降低产量,从而造成巨额的经济损失。